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福建電鍍之厚離子鍍層低成本制作方案

發(fā)布于:2021年01月15日 來源:wzbailong.cn
[摘要]福建電鍍之厚離子鍍層低成本制作方案高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。
福建電鍍之厚離子鍍層低成本制作方案

高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過程上,電源扮演重要的角色,采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式,可于少于2微秒的短時間,發(fā)出高達1500V輸出電壓的強大能量,猶如閃電現(xiàn)象。

福建電鍍

由于過程中釋放大量的離子,消除鍍膜的內(nèi)應(yīng)力,因此可制成厚離子鍍層,無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate),即改善涂層在產(chǎn)品表面的附著力。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù),能越傳統(tǒng)的磁控濺射方法,制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度,不但加強鍍層與底材之間的接合力,亦可減低表面粗糙度,在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數(shù)。
對裝飾性強的產(chǎn)品來說,可保持外觀及更耐用,因此以高能量脈沖式制作鍍層,能有效利用等離子體,從而控制涂層的結(jié)構(gòu),其大特色是可沉積在光滑致密的微細結(jié)構(gòu),提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復(fù)雜的幾何工件之上,達致更均勻的涂層。